德國(guó)plasma Implant植入式等離子體發(fā)生器有效使植入物表面功能化和清潔滅菌

北京中海時(shí)代科技公司提供等離子plasma表面處理設(shè)備，致力于常壓等離子體表面清洗處理、表面活化改性領(lǐng)域多年，等離子表面處理技術(shù)已被廣泛應(yīng)用到工業(yè)、醫(yī)療、科研等行業(yè)。我們?yōu)槟�提供可靠的等離子表面處理解決方案。

Implant plasma植入式等離子體發(fā)生器有效地使植體表面功能化和清潔滅菌，以優(yōu)化其表面特性。 通過用大氣壓等離子體對(duì)表面進(jìn)行功能化，清潔表面，對(duì)植入物進(jìn)行滅菌并降低感染風(fēng)險(xiǎn)。 改善的潤(rùn)濕性促進(jìn)了植入物表面的細(xì)胞形成，并且加速了愈合過程．

Implant plasma－concept － 種植體功能化
使用CeraPlas技術(shù)
醫(yī)用工程材料如氧化鋯陶瓷或鈦和不銹鋼，以及PEEK、聚四氟乙烯、硅樹脂和高填充聚合物可以有效地優(yōu)化其潤(rùn)濕性能。 該性質(zhì)是良好的粘合劑粘合或生物相容性以及周圍活組織的接受性的基礎(chǔ)。 該技術(shù)已經(jīng)使用多年，以使牙科植入物功能化。 通過用大氣壓等離子體對(duì)表面進(jìn)行功能化，清潔表面，對(duì)植入物進(jìn)行滅菌并降低感染風(fēng)險(xiǎn)。同時(shí)，植入物的表面能增加。改善的潤(rùn)濕性改善了植入物表面上的細(xì)胞沉積并加速了愈合過程。

醫(yī)學(xué)和牙科植入物都必須無菌，并具有良好的濕潤(rùn)性，以降低感染、炎癥或被周圍組織排斥的風(fēng)險(xiǎn)。新的植入式制劑概念提供了一種快速和簡(jiǎn)便的植入物處理方法，可以減少表面的細(xì)菌，同時(shí)通過使用大氣壓等離子體增加其濕潤(rùn)性。

緊湊型電離腔室不需要外部氣體輸入，在大氣條件下工作，使用創(chuàng)新、緊湊的等離子體形式產(chǎn)生非熱或“冷”等離子體�；�于等離子體發(fā)生器之一，Ceraplas F－Type，高效PDD（壓電介質(zhì)放電）技術(shù)可用于各種需要很少空間和功率的應(yīng)用。

Implant plasma是用于功能化植入物以優(yōu)化其表面特性的新設(shè)備。 該裝置能夠在植入前立即進(jìn)行自動(dòng)等離子體處理。 將植入物置于小室內(nèi)，按下按鈕開始30秒的等離子體處理。 為了確保植入物被均勻地處理，它在等離子體放電前旋轉(zhuǎn)。 處理后，產(chǎn)生的臭氧在10秒的過程中被活性炭過濾器自動(dòng)中和。 所有處理步驟均由顯示屏和LED信號(hào)指示． 通過用大氣壓等離子體對(duì)表面進(jìn)行功能化，清潔表面，對(duì)植入物進(jìn)行滅菌并降低感染風(fēng)險(xiǎn)。 改善的潤(rùn)濕性促進(jìn)了植入物表面的細(xì)胞形成，并且加速了愈合過程．

技術(shù)

RP Plasma開發(fā)了PDD技術(shù)（壓電直接放電），用于特別緊湊的等離子體生成。 PDDTechnology基于開放式壓電變壓器（PT）的直接放電。 PDD？技術(shù)可轉(zhuǎn)換低輸入電壓。這導(dǎo)致高電場(chǎng)強(qiáng)度。這會(huì)使周圍的工藝氣體 － 通常是空氣 – 電離并離子化。消毒主要通過用臭氧氧化產(chǎn)生氣味的分子和微生物來進(jìn)行。

優(yōu)勢(shì)

等離子體implant plasma的優(yōu)點(diǎn)是顯而易見的：

小巧緊湊；使用方便；經(jīng)過驗(yàn)證的安全應(yīng)用；用戶非常容易處理；高效安全地激發(fā)氣體分子；極高功率密度的緊湊型設(shè)備；由于熱量損失低，因此非常節(jié)能；操作僅需24 V（標(biāo)準(zhǔn)插座的電源）；非常環(huán)保，不需要輔助材料，如化學(xué)品或添加劑