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英偉達(dá)安培顯卡采用三星10nm工藝，支持光線追蹤

2020-03-12 16:39
來源： IT之家

根據(jù)外媒報(bào)道，爆料消息稱英偉達(dá)的下一代GPU架構(gòu)將基于三星10nm制程，而不是之前報(bào)道的臺(tái)積電7nm工藝，據(jù)稱使用的10nm制程更接近于三星提供的8LPP技術(shù)，另外新的Tegra芯片也將使用相同的制程。

外媒表示，英偉達(dá)安培架構(gòu)曝光的GPU有GA102、GA103、GA104、GA106和GA1075款，配置最高的是GA102。報(bào)道還稱英偉達(dá)新款GPU將全部支持RTX（實(shí)時(shí)光線跟蹤），這意味著英偉達(dá)在安培架構(gòu)上對(duì)RT核心設(shè)計(jì)進(jìn)行升級(jí)，使其在性能較弱的顯卡中也能實(shí)現(xiàn)光線追蹤的效果。

相關(guān)人士提供的信息顯示，配置最低的GA107為1280流處理器，4GB顯存，最高的GA102 GPU為5376流處理器，12GB顯存，其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40％。

受到疫情的影響，英偉達(dá)曾宣布將月底GTC的大會(huì)改為線上直播。根據(jù)外媒anandtech的最新消息，GTC線上直播也將取消，英偉達(dá)將會(huì)采用新聞稿的形式公布新品，時(shí)間定在3月24日。

聲明： 本文由入駐維科號(hào)的作者撰寫，觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表OFweek立場(chǎng)。如有侵權(quán)或其他問題，請(qǐng)聯(lián)系舉報(bào)。

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